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金相切割機試樣拋光
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發(fā)布時間:2019-02-22 閱讀:301次 |
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金相切割機拋光的目的是除去金相試樣磨面上由細磨留下的細微磨痕,成為平整無疵的鏡面。盡管拋光是金相 試樣制備中最后一道工序并由此而得
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金相切割機拋光的目的是除去金相試樣磨面上由細磨留下的細微磨痕,成為平整無疵的鏡面。盡管拋光是金相 試樣制備中最后一道工序并由此而得光滑的鏡面,但金相工作者的經(jīng)驗是:要在金相試樣磨光過:程中多下 工夫,因為拋光的作用僅能除去表層很薄一層金屬,所以拋光成績好壞很大程度上取決于前幾道工序的質(zhì) 量。有時拋光之前磨面上留有少量幾條較深的磨痕,即使增加拋光時間也難以去除,一般須重新磨光。 故拋光之前應(yīng)仔細檢查磨面,是否只留有單一方向均勻的細磨痕,否則應(yīng)重新磨光,免得白費時丨:司,這是提 高金相制樣設(shè)備效率的重要環(huán)節(jié)。
金相試樣的拋光方法按其作用本質(zhì)分為機械拋光、電解拋光、化學(xué)拋光。下面分別加以介紹。
1.?? 金相切割機械拋光原理
機械拋光是拋光微粉與金相試樣磨面相對作用的結(jié)果。拋光微粉比磨光用磨料要細些。一般認為拋 光過程中拋光磨料對試樣磨面的作用有兩個方面。
(1)??? 金相切割機磨削作用
拋光微粒嵌人拋光織物的間隙內(nèi)獲得暫時性固定,起著猶如磨光用砂紙的作用,但在試樣表面上產(chǎn)生 的切削和劃痕比磨光時要細得多。如圖8 - 17所示。
(2)??? 金相切割機滾壓作用
拋光微粒很容易從_拋光織物中脫出、甚至飛出拋光盤。這些脫出的微粒在拋光過程中夾在拋光織物 與試樣磨面之間,對磨面產(chǎn)生機械的滾壓作用,使金屬表面突起部分移流凹洼部分。此外,拋光織物與磨 面之間的機械摩擦也有助于“金屬的流動”,如圖8 - 18所示。
顯然,磨光過程的滾壓作用會產(chǎn)生一層很薄的變形層,即所謂的拜爾培層,或稱擾亂層,使得磨面不能 正確顯示原來的組織結(jié)構(gòu),是我們所不希望的。為了盡量減少拜爾培層的厚度就應(yīng)該選擇工藝參數(shù)。
2.??? 金相切割機械拋光用設(shè)備
國外的機械拋光的設(shè)備與磨光設(shè)備基本可以通用。前面介紹的自動/半自動的研磨機及圓盤式手動 單盤或雙盤研磨機因其速度可調(diào),都可以當(dāng)拋光機用,只需將研磨的砂紙換成拋光布就可以了。
Buehler公司還有一種新穎單試樣的小型自動磨拋機,它的工作原理與傳統(tǒng)拋光 機不同,工作臺上的塑料圓盤是靜止不動的,直徑約為56mm,盤內(nèi)有可定位的玻璃板,板上可粘貼砂紙或 拋光織物。工作時,在砂紙上要添加潤滑劑,或在拋光織物上添加各種相應(yīng)的磨料。試樣在盤內(nèi)運動時, 其動力來自一根拋光臂。試樣需經(jīng)鑲嵌,并在背面中心打有一定規(guī)格的孔,是拋光臂與試樣的鑲嵌點。拋光 臂又由兩個不同的齒輪間接帶動。由于兩齒輪只差一齒,因此拋光臂的運動呈現(xiàn)復(fù)雜的軌跡。是開始幾轉(zhuǎn)的運動軌跡,經(jīng)一定時間后軌跡幾乎布滿了整個面。試樣由拋光臂帶動在盤內(nèi)運動就表現(xiàn)出 多方向性,在整個拋光過程中的任一時刻均不會出現(xiàn)某一重復(fù)的拋光軌跡。拋光臂的運動速度可無級調(diào) 令,它對試樣的壓重也可從〇kg?2kg根據(jù)要求選擇。該儀器還帶有一些附件,使它能完成從粗磨到拋光 的全部工序。每道操作工序中的“壓力”、“速度”、“時間”可以根據(jù)樣品制備工藝自行預(yù)選。它特別適于試 樣制備量不大的研究室中使用。
隨著科技的發(fā)展,現(xiàn)在還有一種從磨光到拋光均可實現(xiàn)全自動的機器,可批量進行金相試樣的研磨和 拋光工作,減輕了金相工作者的勞動,適用于僅需制備單一材料或較少種類的材料且制備量較大的 實驗室使用。
Buehler公司的全自動磨拋機,它包括:磨拋機、磨料配送系統(tǒng)、超聲波清洗器、試樣 干燥器等幾個系統(tǒng),從研磨到最后拋光整個過程可全自動完成,整個過程的每個工序之間都進行夾持器和 樣品的清洗與烘干,充分保證了樣品制備的高 效與高品質(zhì)。我國的自動、半自動拋光機的設(shè)計、制造也已經(jīng)起步,并不斷有產(chǎn)品問世。恒儀硬度計&金相制樣設(shè)備 http://www.jilina.cn
3.??? 金相切割機械拋光用微粉
作為磨料,就應(yīng)該具有高的硬度、強度,其顆粒應(yīng)該均勻。好的磨料外形尖銳呈多角形,一旦破碎也會 增加磨料的切削刃口。若磨料易磨鈍而呈圓粒,就失去磨削作用,只能在拋光盤和試樣磨面之間滾動, 使磨面表層生成有害的擾亂層。更有害的是會把非金屬夾雜拖出,使凹痕擴大。因此作為金相試樣拋光 磨料必 須有所選擇。一方面是切削性能,另一方面是顆粒尺寸必 須<28Pm,而且必 須均勻。最大磨粒尺 寸不得大于最小磨粒的3倍,對于某一規(guī)格內(nèi)的較大磨粒及較小磨粒的含量有一定的限制。只有使用符 合上述要求的拋光微粉才能使試樣磨面經(jīng)拋光后達到質(zhì)量要求。
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